真空镀靶材一般是高纯度金属、合金或陶瓷材料，如铝、铜、钛、铬、银、ITO（氧化铟锡）等，用于物理气相沉积（PVD）工艺中，通过溅射或蒸发形成薄膜。其核心特点是高纯度（99.9%以上）、均匀成分及特定物理性能，直接影响镀膜的质量和功能。
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高纯度金属靶材
铝、铜、银等金属靶材因导电性和延展性优异，广泛用于电子元件、光伏电池和装饰镀膜。例如，铝靶用于太阳能背板反射层，银靶用于高端镜面镀膜。 -
合金与化合物靶材
钛铝（TiAl）、铬镍（CrNi）等合金靶可调整薄膜硬度与耐腐蚀性，适用于刀具涂层或航空航天部件。陶瓷靶材如氮化钛（TiN）则用于耐磨工具镀层。 -
透明导电氧化物（TCO）靶材
ITO靶材是触摸屏、液晶显示器的关键材料，兼具高透光率和导电性，但近年因铟稀缺，氧化锌（ZnO）等替代材料逐渐兴起。 -
特殊功能靶材
磁性材料（如钴铁靶）用于硬盘存储，而贵金属（金、铂）靶材则服务于精密光学或医疗器件，成本较高但性能不可替代。
选择靶材需综合考虑镀膜用途（导电、光学、防护等）、工艺兼容性及成本。未来，低耗能、环保型靶材（如无铟材料）将成为研发重点。
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