光学薄膜工艺流程是通过‌真空镀膜技术‌在基材表面沉积多层介质膜，实现‌增透、反射、滤光等光学功能‌的核心技术。‌关键亮点‌包括：高精度膜厚控制（误差<1纳米）、多层膜系设计优化、环境洁净度（Class 1000以下）三大核心环节。

1. ‌基材预处理‌
   玻璃或塑料基材需经过超声波清洗、等离子处理去除表面杂质，确保膜层附着力。粗糙度需控制在Ra<0.5nm，避免散射损耗。

2. ‌真空镀膜‌
   采用电子束蒸发或磁控溅射技术，在10⁻⁴Pa级真空环境中沉积氧化物、氟化物等材料。膜厚通过石英晶体振荡器实时监控，精度达±0.3nm。

3. ‌膜系设计‌
   通过TFCalc等软件模拟光路，设计交替堆叠的高/低折射率膜层（如TiO₂/SiO₂），实现特定波段（如红外截止）的光学性能。

4. ‌后处理与检测‌
   镀膜后需退火消除应力，并通过分光光度计测试透过率、反射率曲线，确保符合设计指标（如增透膜透过率>99.5%）。

‌提示‌：工艺稳定性依赖环境温湿度控制（23±1℃, 45±5%RH）和设备维护周期（每200小时校准一次）。