根据权威信息综合分析,纯中国芯片的量产能力如下:
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成熟制程(28nm及以上)
中国企业已实现28nm及以上成熟工艺芯片的量产,并占据全球市场重要地位。预计到2025年底,中国28nm及以上产能将占全球的28%。
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军用芯片突破28nm
2025年,中国成功量产28nm军用芯片,以94%的良率和全球最低成本构建起反制裁优势,显著削弱美国技术封锁影响。
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纯国产设备限制
若仅使用国产设备,当前最高量产能力为90nm(受光刻机技术瓶颈限制)。但通过多重曝光等技术,可尝试生产28nm及以上制程芯片,但良品率极低。
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技术进展与挑战
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光刻机:国产光刻机精度已达90nm,但与顶尖设备差距仍显著,需突破EUV光刻技术。
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设备配套:硅材料、光刻胶等核心设备仍依赖进口,限制整体产能提升。
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总结 :纯中国芯片在28nm及以上成熟制程已实现量产,并突破军用芯片领域;但受设备限制,当前纯国产设备下最高量产能力为90nm,向更先进制程迈进仍需突破核心技术瓶颈。