全球主要‌芯片光刻机生产厂家‌集中在荷兰、日本和中国，其中‌荷兰ASML‌垄断高端EUV光刻机市场，‌日本尼康和佳能‌主导中低端DUV设备，‌中国上海微电子（SMEE）‌正加速突破28nm制程技术。以下是核心厂家的详细分析：

1. ‌荷兰ASML‌

   • 全球唯一能生产EUV（极紫外）光刻机的企业，技术领先3代以上，客户包括台积电、三星和英特尔。
   • 2024年出货约50台EUV设备，单价超1.5亿美元，7nm以下芯片制造依赖其技术。

2. ‌日本尼康（Nikon）‌

   • 专注ArF和KrF激光光刻机，覆盖7nm至成熟制程，性价比高于ASML同类型产品。
   • 2023年市占率约15%，主要供应中国、东南亚晶圆厂。

3. ‌日本佳能（Canon）‌

   • 主攻低端i-line和KrF设备，适用于汽车芯片、传感器等成熟工艺。
   • 2024年推出纳米压印技术，试图绕开光刻限制。

4. ‌中国上海微电子（SMEE）‌

   • 已量产90nm光刻机，28nmSSA800型预计2025年交付，采用自主物镜系统和双工件台技术。
   • 受国际供应链限制，但通过国产化率提升加速替代进程。

‌行业趋势‌显示，未来3年EUV需求将增长120%，而地缘政治可能推动区域化供应链形成。建议关注ASML的High-NA EUV升级与中国企业的技术突破进展。