​​中国目前无法直接采购2nm光刻机，国际市场上此类设备单价高达3.5亿至4亿美元，且受出口管制限制。​​ 荷兰ASML公司生产的High-NA EUV光刻机是制造2nm芯片的核心设备，但受限于技术封锁，中国半导体企业短期内难以通过合法渠道获取。不过，国内正加速自主研发，例如清华大学和上海微电子在光刻技术领域的突破，为未来实现技术自主奠定了基础。

2nm光刻机的价格主要由技术复杂性和垄断性决定。其核心特点包括：

• ​​超高成本​​：ASML最新High-NA EUV光刻机售价约3.5亿欧元（约26.3亿人民币），且维护费用高昂，仅台积电、三星等少数企业能负担。
• ​​技术壁垒​​：设备整合全球顶尖技术，涉及数十万精密部件，中国短期内难以独立复刻。
• ​​出口限制​​：美国及盟友严格限制对华出口先进光刻机，中芯国际此前采购的EUV光刻机因禁令未能交付。

中国应对策略包括：

• ​​自主研发​​：上海微电子已推出支持7nm制程的DUV光刻机，并计划向更先进节点突破。
• ​​技术合作​​：华为等企业与国内研究机构联合攻关，探索绕开EUV限制的替代方案，如SSMB-EUV技术。

尽管短期内2nm光刻机难以国产化，但中国通过技术积累和政策支持，正逐步缩小与国际差距。未来需持续关注国内技术突破和国际管制动态。