直接带隙半导体的典型例子包括砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)。以下是具体说明:
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砷化镓(GaAs)
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属于III-V族化合物半导体,具有直接带隙特性,导带底和价带顶在k空间重合。
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广泛应用于高效发光二极管(LED)、激光器及高速电子器件。
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磷化铟(InP)
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同样为III-V族化合物,直接带隙特性显著,导带与价带在k空间对齐。
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主要用于光通信、红外激光器及量子点发光器件。
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补充说明 :
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直接带隙半导体的核心优势是电子-空穴复合时能量几乎全部以光子形式释放,从而实现高效发光。
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间接带隙半导体(如Si、Ge)的电子跃迁需同时满足能量和动量匹配,导致发光效率较低。