半导体设备是芯片制造的核心支撑,全球龙头企业以ASML(光刻机垄断)、应用材料(平台型设备)、东京电子(刻蚀/沉积)为主导,中国厂商如北方华创(刻蚀/沉积)、中微公司(刻蚀设备)等正快速崛起。以下是主要厂商分类解析:
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全球头部企业
- ASML:全球唯一EUV光刻机供应商,技术壁垒极高,支撑7纳米以下先进制程。
- 应用材料:覆盖刻蚀、沉积、检测等全流程设备,市场份额长期稳居第一。
- 东京电子:在刻蚀和薄膜沉积领域与泛林集团(LAM)竞争,两者均为细分领域巨头。
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中国核心厂商
- 北方华创:国内唯一平台型设备商,产品线涵盖刻蚀机、薄膜设备等,营收规模领先。
- 中微公司:刻蚀设备技术达5纳米节点,国际客户包括台积电。
- 盛美上海:专注清洗设备,在先进封装领域打破国际垄断。
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其他细分领域
科磊(KLA)主导检测设备,泰瑞达(Teradyne)聚焦半导体测试机,而华海清科的化学机械抛光设备(CMP)填补国内空白。
随着国产替代加速,中国厂商在部分设备领域已实现技术突破,但光刻机等高端设备仍依赖进口。未来行业竞争将聚焦先进制程与产业链协同能力。