截至2025年5月，我国尚未实现5nm芯片的量产，但已取得重要进展。以下是关键信息整合：

1. 技术突破与量产目标

   中芯国际宣布2025年量产等效5nm芯片，成为中国大陆唯一突破10nm以下制程的厂商。这一目标标志着国产芯片在制程技术上的重大突破。

2. 核心部件国产化进展

   国产光刻机整机国产化率约15%-20%，主要集中于28nm及以上成熟制程。核心部件如光源产生器、光学系统等仍依赖进口，尤其是EUV光刻机尚未掌握。

3. 工艺路线与技术挑战

   国产芯片采用自对准四重图案化技术实现5nm量产，该技术曾被视为“低端”但助力突破。荷兰ASML CEO彼得·温宁克曾断言，没有EUV光刻机无法量产5nm芯片，但历史经验表明技术壁垒终会被突破。

4. 市场地位与产业影响

   国产芯片代工企业（如中芯国际）已确立第二阵营市场地位，5nm工艺验证通过并进入量产阶段，打破了美国技术封锁下的高端芯片依赖进口局面。

总结 ：我国5nm芯片量产目标已明确，但受限于核心设备（如EUV光刻机）尚未完全实现。当前进展为技术路线突破和量产验证，未来需持续突破设备瓶颈以实现大规模商用。